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真空装置

PLDとはPulsed Laser Deposition(パルスレーザデポジション)法の略であり、真空チャンバー中に置かれた対象材料にパルスレーザを照射することにより、光化学反応を伴う爆発的な気化によって励起化学種を発生させ(アブレーション:ablation)、対向する基板上に薄膜として蓄積する成膜方法であり、その方法を利用したのがPLD装置です。

PLD法は、酸化物のような高融点物質の製膜が簡単に行え、原料と薄膜の成分元素のずれが少なく、真空中でアブレーションさせるという光プロセスで行われるため、コンタミネーションが少ないのが特徴といえます。

パルスレーザの調整により、成膜速度の制御が緻密に行え、広範囲のガス圧領域での成膜が可能であり、原料を交換することにより、異種薄膜の積層化が簡単に行えます。

PLD装置では、高温超電導、強誘電体、半導体等色々な分野で適した研究開発装置です。

AOVでは、お客様のアプリケーションに適したカスタマイズ設計・製造を行うことにより、
お客様のニーズにお応えいたします。

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真空装置製品一覧
AOVの強み

先端的なレーザー・光学技術と真空技術を融合し、新薄膜生成システム、精密加工システムを仕様用途に応じてカスタマイズすることにより、世界に1台の製品をご提供いたします。

AOVの新着情報
■ 17/02/06

【展示会出展のお知らせ】

2017/3/14(火)〜17(金)までパシフィコ横浜で開催される『2017年 第64回 応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 15/03/05

【展示会出展のお知らせ】

2015/3/11(水)〜14(土)まで東海大学湘南キャンパスで開催される『2015年 第62回 応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 14/06/09

【展示会出展のお知らせ】

2014/9/17(水)〜20(土)まで北海道大学札幌キャンパスで開催される『2014年 第75回 応用物理学会秋季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 09/12/10

【NIMNOWの表紙に
 弊社装置が掲載】

独立行政法人 物質・材料研究機構の広報誌、NIMSNOWの表紙にご掲載されました。 NIMSNOW2009年11月号