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真空装置

PLAD-161 PLDシステム

PLAD-161 PLDシステム

PLAD-161 PLDシステムは基板搬送機構を簡易にすることで廉価ながらもメインチャンバーを大気に開放することなく、基板交換が行えます。

主な仕様
TMP排気系
200L/s(メイン)、LLはRPのみ
基板サイズ
最大1inch (25.4mm
基板温度(基板上)
850℃
到達真空度
5×10-6pa 以下
ロードロックチャンバー
簡易ロードロックハッチ(LLH)
ターゲット
1inch径×6個 もしくは 2inch×4個
導入光学系
エキシマレーザ用集光レンズ
オプション例
  • ・RHEED 電子銃
  • ・RHD-SC114 スクリーンシャッター
  • ・RHEED 画像解析

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真空装置製品一覧
AOVの強み

先端的なレーザー・光学技術と真空技術を融合し、新薄膜生成システム、精密加工システムを仕様用途に応じてカスタマイズすることにより、世界に1台の製品をご提供いたします。

AOVの新着情報
■ 17/02/06

【展示会出展のお知らせ】

2017/3/14(火)〜17(金)までパシフィコ横浜で開催される『2017年 第64回 応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 15/03/05

【展示会出展のお知らせ】

2015/3/11(水)〜14(土)まで東海大学湘南キャンパスで開催される『2015年 第62回 応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 14/06/09

【展示会出展のお知らせ】

2014/9/17(水)〜20(土)まで北海道大学札幌キャンパスで開催される『2014年 第75回 応用物理学会秋季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 09/12/10

【NIMNOWの表紙に
 弊社装置が掲載】

独立行政法人 物質・材料研究機構の広報誌、NIMSNOWの表紙にご掲載されました。 NIMSNOW2009年11月号