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真空装置

SPAR-211 小型RFスパッタ蒸着装置

SPAR-211 小型RFスパッタ蒸着装置

SPAR-211 小型RFスパッタ蒸着装置は試作・実験用薄膜作成用の小型スパッタ装置です。

金属、絶縁物、誘電体薄膜用に小型ターゲット(2”)搭載しております。

各種材料に応じた電源との組み合わせ可能(パルスDC、RF)です。

高温基板加熱(基板上900度以上)条件下で使用可能です。

主な仕様
真空性能
5E-5Pa以下
主ポンプ
TMP:200L/Sec、RP
ターゲット材料
金属、半導体シリコン、ガラス、セラミックス
誘電材料
ターゲットサイズ
φ2”(φ53mm)厚さ5mm(材料・成膜仕様による)
スパッタヘッド外形寸法
最大外形90mm×CF70 面からの長さ152mm
(仕様により変更可能)
基板サイズ
φ1”〜φ2”(角基板対応可能)
投入電力
最大200W以上 ターゲット材料、製造法に依存
適応電源
電源300W、パルスDC(350KHz)
RF(13.56MHz)電源に対応
オプション例
  • ・回転基板加熱機構(φ1”〜φ2”)
  • ・ターゲット増設
  • ・In-Situ成膜速度モニター( RFスパッタ用水晶式モニター)
  • ・外部パルス制御機能付きPC
  • ・T/S距離可変式(50mm〜150mm)
  • ・RHeed
スパッタガン仕様
・銅BP(バッキングプレート)ボンディング式
 (間接水冷方式)
・ボンディングは、ハンダ、拡散接合対応可
・φ70CFフランジポートから導入可能
 (仕様により変更可能)
・O‐リングクランプ方式とUHV方式 対応可能

スパッタガン



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真空装置製品一覧
AOVの強み

先端的なレーザー・光学技術と真空技術を融合し、新薄膜生成システム、精密加工システムを仕様用途に応じてカスタマイズすることにより、世界に1台の製品をご提供いたします。

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■ 17/02/06

【展示会出展のお知らせ】

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■ 15/03/05

【展示会出展のお知らせ】

2015/3/11(水)〜14(土)まで東海大学湘南キャンパスで開催される『2015年 第62回 応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 14/06/09

【展示会出展のお知らせ】

2014/9/17(水)〜20(土)まで北海道大学札幌キャンパスで開催される『2014年 第75回 応用物理学会秋季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 09/12/10

【NIMNOWの表紙に
 弊社装置が掲載】

独立行政法人 物質・材料研究機構の広報誌、NIMSNOWの表紙にご掲載されました。 NIMSNOW2009年11月号